溶液法を用いた酸化亜鉛系薄膜トランジスタの作製および熱ナノインプリント法による酸化物薄膜のダイレクトパターニング (シリコン材料・デバイス)

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溶液法を用いた酸化亜鉛系薄膜トランジスタの作製および熱ナノインプリント法による酸化物薄膜のダイレクトパターニング

(シリコン材料・デバイス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
028039972
資料種別
記事
著者
木村 史哉ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2017-02-24
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116(472):2017.2.24
掲載ページ
p.13-16
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
木村 史哉
アブドゥラ ハナキ
孫 屹
佐々木 祥太
永山 幸希
小山 政俊
前元 利彦
佐々 誠彦
シリーズタイトル
並列タイトル等
Fabrication of Zinc Oxide-based Thin Films Transistors by a Solution Process and a Direct Patterning of Oxide Thin Films by a Thermal Nanoimprint Method
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
116(472):2017.2.24
掲載巻
116
掲載号
472