半導体製造用短波長光源 : エキシマレーザーからLPP-EUV光源への挑戦

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資料種別: 記事
タイトル: 半導体製造用短波長光源 : エキシマレーザーからLPP-EUV光源への挑戦
著者・編者: 溝口計
斎藤隆志
伊藤仙聡
山崎卓
著者標目: 溝口計
斎藤隆志
伊藤仙聡
山崎卓
並列タイトル等: Short wavelength light source for semiconductor manufacturing : Challenge from excimer laser to LPP-EUV light source
タイトル（掲載誌）: Komatsu technical report
巻号年月日等（掲載誌）: 62(169):2016
掲載巻: 62
掲載号: 169
掲載ページ: 27-37
掲載年月日（W3CDTF）: 2016
ISSN（掲載誌）: 0916-796X
ISSN-L（掲載誌）: 0916-796X
出版事項（掲載誌）: 東京 : コマツ開発本部
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
件名標目: リングラフィ
エキシマレーザー
EUV
プラズマ
半導体
NDLC: ZN11
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z16-805
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 028132736
http://id.ndl.go.jp/bib/028132736
整理区分コード: 632