GaN基板のプラズマ融合CMP技術 : エタノールバブリング・Arプラズマを用いたプラズマ融合CMP特性とその評価

• 資料種別: 記事
• タイトル: GaN基板のプラズマ融合CMP技術 : エタノールバブリング・Arプラズマを用いたプラズマ融合CMP特性とその評価
• 著者・編者: 山崎 直樹; 土肥 俊郎; 曾田 英雄; 金 聖祐; 大山 幸希; 黒河 周平; 佐野 泰久; 白谷 正治; 山西 陽子
• シリーズタイトル: シリコン材料・デバイス
• 著者標目: 山崎 直樹; 土肥 俊郎; 曾田 英雄; 金 聖祐; 大山 幸希; 黒河 周平; 佐野 泰久; 白谷 正治; 山西 陽子
• 並列タイトル等: Plasma fusion CMP technology for GaN substrates : Evaluation of processing characteristics for plasma fusion CMP using Ar plasma and ethanol bubbling
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 117(7):2017.4.20・21
• 掲載巻: 117
• 掲載号: 7
• 掲載ページ: 19-23
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2017-04
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: プラズマ融合CMP; P-CVM; CMP; GaN; Arプラズマ; バブリング法; アーク放電; グロー放電; Plasma fusion CMP; Ar plasma; Bubbling method; Arc discharge; Glow discharge
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: SDM2017-5
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 028167189; http://id.ndl.go.jp/bib/028167189
• 整理区分コード: 632