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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 山崎 直樹土肥 俊郎曾田 英雄金 聖祐大山 幸希黒河 周平佐野 泰久白谷 正治山西 陽子
- シリーズタイトル
- 並列タイトル等
- Plasma fusion CMP technology for GaN substrates : Evaluation of processing characteristics for plasma fusion CMP using Ar plasma and ethanol bubbling
- タイトル(掲載誌)
- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
- 巻号年月日等(掲載誌)
- 117(8):2017.4.20・21
- 掲載巻
- 117
- 掲載号
- 8