本文に飛ぶ

150kHz帯バースト大電力ICP(ICIS)によるシリコンウエハエッチング (プラズマ パルスパワー 放電 合同研究会 プラズマ・放電・パルスパワー一般)

記事を表すアイコン

150kHz帯バースト大電力ICP(ICIS)によるシリコンウエハエッチング

(プラズマ パルスパワー 放電 合同研究会 プラズマ・放電・パルスパワー一般)

国立国会図書館請求記号
Z74-C90
国立国会図書館書誌ID
028305858
資料種別
記事
著者
行村 建ほか
出版者
東京 : 電気学会
出版年
2017-05-13
資料形態
掲載誌名
電気学会研究会資料. PPT / パルスパワー研究会 [編] 2017(1-4・6・7・9-17):2017.5.13
掲載ページ
p.1-4
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
記事
著者・編者
行村 建
小木曽 久人
中野 禅
板垣 宏和
並列タイトル等
Silicon wafer sample etching by ICIS with 150kHz frequency band
タイトル(掲載誌)
電気学会研究会資料. PPT / パルスパワー研究会 [編]
巻号年月日等(掲載誌)
2017(1-4・6・7・9-17):2017.5.13
掲載巻
2017
掲載号
1-4・6・7・9-17