本文に飛ぶ
準大気圧下でのX線光...

準大気圧下でのX線光電子分光測定による水分子が吸着した極薄GeO₂/GeおよびSiO₂/Si構造の観察 (第36回表面科学学術講演会特集号(1))

記事を表すアイコン

準大気圧下でのX線光電子分光測定による水分子が吸着した極薄GeO₂/GeおよびSiO₂/Si構造の観察(第36回表面科学学術講演会特集号(1))

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
028381697
資料種別
記事
著者
有馬 健太
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
2017-07
資料形態
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 38(7):2017.7
掲載ページ
p.330-335
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
記事
著者・編者
有馬 健太
著者標目
並列タイトル等
Water-Adsorbed Ultrathin GeO₂/Ge and SiO₂/Si Structure Studied In Situ by Near-Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy
タイトル(掲載誌)
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
38(7):2017.7
掲載巻
38
掲載号
7