有機強塩基を発生するアセト酢酸塩型光塩基発生剤の合成およびチオール-エポキシ混合樹脂のアニオンUV硬化への応用

• 資料種別: 記事
• タイトル: 有機強塩基を発生するアセト酢酸塩型光塩基発生剤の合成およびチオール-エポキシ混合樹脂のアニオンUV硬化への応用
• 著者・編者: 有光 晃二; 柳 正義; 古谷 昌大
• 著者標目: 有光 晃二; 柳 正義; 古谷 昌大
• 並列タイトル等: Synthesis of Acetoacetate-Derived Photobase Generators for Generation of Organic Superbases and Their Application for Anionic UV Curing of Thiol-Epoxy Mixed Resins
• タイトル（掲載誌）: ネットワークポリマー = Journal of network polymer, Japan
• 巻号年月日等（掲載誌）: 38(4):2017
• 掲載巻: 38
• 掲載号: 4
• 掲載ページ: 158-165
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2017
• ISSN（掲載誌）: 1342-0577
• ISSN-L（掲載誌）: 1342-0577
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 合成樹脂工業協会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Acetoacetic acid; Photobase generator; Superbase; Anionic UV curing; Thiol-epoxy mixed resin
• NDLC: ZP17
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-845
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 028391128; http://id.ndl.go.jp/bib/028391128
• 整理区分コード: 632