レーザーアブレーション法によるSiCバッファ層を用いたAlN/Si(110)基板上へのSiCエピタキシャル成長 (信頼性)

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レーザーアブレーション法によるSiCバッファ層を用いたAlN/Si(110)基板上へのSiCエピタキシャル成長

(信頼性)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
028508892
資料種別
記事
著者
奈良 友奎ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2017
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 117(191):2017.8.31・9.1
掲載ページ
p.7-10
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
奈良 友奎
成田 舜基
中澤 日出樹
シリーズタイトル
並列タイトル等
Epitaxial growth of SiC on AlN/Si(110) substrates using SiC buffer layer by pulsed laser deposition
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
117(191):2017.8.31・9.1
掲載巻
117
掲載号
191