ループ型誘導熱プラズマを用いたSi基板の高速酸化試験および数値解析

• 資料種別: 記事
• タイトル: ループ型誘導熱プラズマを用いたSi基板の高速酸化試験および数値解析
• 著者・編者: 土谷 拓光; 藤田 敦士; 田中 康規; 上杉 喜彦; 石島 達夫; 幸本 徹哉; 川浦 廣
• シリーズタイトル: プラズマ パルスパワー 放電 合同研究会 環境浄化技術
• 著者標目: 土谷 拓光; 藤田 敦士; 田中 康規; 上杉 喜彦; 石島 達夫; 幸本 徹哉; 川浦 廣
• 並列タイトル等: Rapid Oxidation of Si Substrate using Loop Type of Inductively Coupled Thermal Plasmas and Numerical Analysis
• タイトル（掲載誌）: 電気学会研究会資料. PPT / パルスパワー研究会 [編]
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2017(48-51・53-57):2017.10.25
• 掲載巻: 2017
• 掲載号: 48-51・53-57
• 掲載ページ: 23-28
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2017-10-25
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電気学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 誘導熱プラズマ; 酸化; シリコン; 表面改質; 熱流体解析; 酸化シミュレーション; Inductively coupled thermal plasma; Oxidation; Silicon; Surface modification; Thermal fluid analysis; Oxidation simulation
• NDLC: ZN31
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: PPT-17-53
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z74-C90
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 028647487; http://id.ndl.go.jp/bib/028647487
• 整理区分コード: 632