SiH₄+N₂マルチホロー放電プラズマCVDによるSiN製膜時のクラスターの取り込み

• 資料種別: 記事
• タイトル: SiH₄+N₂マルチホロー放電プラズマCVDによるSiN製膜時のクラスターの取り込み
• 著者・編者: 永石 翔大; 佐々木 勇輔; 田中 和真; 原 尚志; 鎌滝 晋礼; 板垣 奈穂; 古閑 一憲; 白谷 正治
• シリーズタイトル: 放電 プラズマ・パルスパワー合同研究会・環境浄化技術・一般
• 著者標目: 永石 翔大; 佐々木 勇輔; 田中 和真; 原 尚志; 鎌滝 晋礼; 板垣 奈穂; 古閑 一憲; 白谷 正治
• 並列タイトル等: Incorporation of clusters during the processing of SiN by SiH₄+N₂ Multi-hollow Discharge Plasma CVD
• タイトル（掲載誌）: 電気学会研究会資料. PPP = The papers of technical meeting, IEE Japan / プラズマ・パルスパワー研究会 [編]
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2018(51-64):2018.10.27
• 掲載巻: 2018
• 掲載号: 51-64
• 掲載ページ: 5-10
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2018-10-27
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電気学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: SiN; マルチホロー放電プラズマCVD; ナノ粒子; クラスター; QCM; Multi-hollow discharge plasma CVD; nano particle; cluster
• NDLC: ZN31
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: PPP-18-52
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z43-229
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029335836; http://id.ndl.go.jp/bib/029335836
• 整理区分コード: 632