表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と構造および電気特性評価

• 資料種別: 記事
• タイトル: 表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と構造および電気特性評価
• 著者・編者: 神村 勇馬; 松浦 貴志; 鳥越 雅敬; 堤井 君元; 松本 精一郎
• シリーズタイトル: 放電 プラズマ・パルスパワー合同研究会・環境浄化技術・一般
• 著者標目: 神村 勇馬; 松浦 貴志; 鳥越 雅敬; 堤井 君元; 松本 精一郎
• 並列タイトル等: Synthesis of Boron Nitride Films by Surface-Wave Plasma-Enhanced CVD and Characterization of Their Structure and Electrical Properties
• タイトル（掲載誌）: 電気学会研究会資料. PPP = The papers of technical meeting, IEE Japan / プラズマ・パルスパワー研究会 [編]
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2018(43-50):2018.10.26
• 掲載巻: 2018
• 掲載号: 43-50
• 掲載ページ: 5-8
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2018-10-26
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電気学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: マイクロ波プラズマ; 窒化ホウ素; イオン衝撃; 誘電体; パワー半導体; microwave plasma; boron nitride; ion bombardment; dielectric; power semiconductor
• NDLC: ZN31
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: PPP-18-44
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z43-229
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029341287; http://id.ndl.go.jp/bib/029341287
• 整理区分コード: 632