フォトニック結晶CirDレーザに向けた深掘ドライエッチングに関する研究

• 資料種別: 記事
• タイトル: フォトニック結晶CirDレーザに向けた深掘ドライエッチングに関する研究
• 著者・編者: 曽 理; 溝口 舜; 張 秀宇; 竹内 健斗; 梶井 博武; 森藤 正人; 丸田 章博; 近藤 正彦
• シリーズタイトル: エレクトロニクスシミュレーション
• 著者標目: 曽 理; 溝口 舜; 張 秀宇; 竹内 健斗; 梶井 博武; 森藤 正人; 丸田 章博; 近藤 正彦
• 並列タイトル等: A study of deep dry etching for Photonic Crystal CirD Laser
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 118(400):2019.1.17・18
• 掲載巻: 118
• 掲載号: 400
• 掲載ページ: 23-26
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2019-01
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: フォトニック結晶; ドライエッチング; InAs量子ドット; GaAs; AlGaAs; Photonic crystal; Dry etching; InAs quantum dot
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: EST2018-82
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029504670; http://id.ndl.go.jp/bib/029504670
• 整理区分コード: 632