A Comparison of Removal Phenomena in Photoresist Materials Using Laser Irradiation

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A Comparison of Removal Phenomena in Photoresist Materials Using Laser Irradiation

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資料種別: 記事
タイトル: A Comparison of Removal Phenomena in Photoresist Materials Using Laser Irradiation
著者・編者: Tomosumi Kamimura
Naoki Nishioka
Yuji Umeda
Daichi Shima
Yusuke Funamoto
Yoshiyuki Harada
Masashi Yoshimura
Ryosuke Nakamura
Hideo Horibe
著者標目: Tomosumi Kamimura
Naoki Nishioka
Yuji Umeda
Daichi Shima
Yusuke Funamoto
Yoshiyuki Harada
Masashi Yoshimura
Ryosuke Nakamura
Hideo Horibe
タイトル（掲載誌）: Journal of photopolymer science and technology
巻号年月日等（掲載誌）: 32(4):2019
掲載巻: 32
掲載号: 4
掲載ページ: 603-607
掲載年月日（W3CDTF）: 2019
ISSN（掲載誌）: 0914-9244
ISSN-L（掲載誌）: 0914-9244
出版事項（掲載誌）: Chiba : The Society of Photopolymer Science and Technology
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: Resist stripping phenomena
Stripping threshold
Time-resolved images
NDLC: ZP48
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z53-W515
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 030069641
http://id.ndl.go.jp/bib/030069641
整理区分コード: 632