Relationship between Oxygen Additive Amount and Photoresist Removal Rate Using H Radicals Generated on an Iridium Hot-Wire Catalyst
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- Masashi YamamotoTomohiro ShiroiTomokazu ShikamaShiro NagaokaHironobu UmemotoHideo Horibe
- タイトル（掲載誌）
- Journal of photopolymer science and technology
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 32(4):2019
- 掲載巻
- 32
- 掲載号
- 4
- 掲載ページ
- 609-614
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2019