トレンチフィールドプ...

トレンチフィールドプレートを有する1200V SiCデバイス向け極短エッジ構造の開発 (電子デバイス 半導体電力変換合同研究会 パワーデバイス・パワーエレクトロニクスとその実装技術)

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トレンチフィールドプレートを有する1200V SiCデバイス向け極短エッジ構造の開発

(電子デバイス 半導体電力変換合同研究会 パワーデバイス・パワーエレクトロニクスとその実装技術)

国立国会図書館請求記号
Z43-225
国立国会図書館書誌ID
030118520
資料種別
記事
著者
三塚 要ほか
出版者
東京 : 電気学会
出版年
2019-11-29
資料形態
掲載誌名
電気学会研究会資料. EDD = The papers of technical meeting on electron devices, IEE Japan / 電子デバイス研究会 [編] 2019(75-86):2019.11.29
掲載ページ
p.23-27
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
三塚 要
小野澤 勇一
脇本 節子
藤島 直人
Yong Liu
Wentao Yang
Hao Feng
Johnny K.O. Sin
並列タイトル等
Trench Field Plate Engineering for High Efficient Edge Termination of 1200V-class SiC Devices
タイトル(掲載誌)
電気学会研究会資料. EDD = The papers of technical meeting on electron devices, IEE Japan / 電子デバイス研究会 [編]
巻号年月日等(掲載誌)
2019(75-86):2019.11.29
掲載巻
2019
掲載号
75-86