光触媒を用いた紫外線励起研磨 : 4H-SiCの研磨面粗さの微小化と酸化物除去の追究

• 資料種別: 記事
• タイトル: 光触媒を用いた紫外線励起研磨 : 4H-SiCの研磨面粗さの微小化と酸化物除去の追究
• 著者・編者: 田中 武司; 滝沢 優; 畑 彰宏
• 著者標目: 田中 武司; 滝沢 優; 畑 彰宏
• 並列タイトル等: Ultraviolet-excitation polishing using photocatalyst : study of roughness decrease and oxide removal of the polished 4H-SiC plane
• タイトル（掲載誌）: Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology
• 巻号年月日等（掲載誌）: 63(12)=448:2019.12
• 掲載巻: 63
• 掲載号: 12
• 掲載通号: 448
• 掲載ページ: 630-637
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2019-12
• ISSN（掲載誌）: 0914-2703
• ISSN-L（掲載誌）: 0914-2703
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 砥粒加工学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: ultraviolet-excitation polishing; photocatalyst; cathilon; XAFS; 4H-SiC
• NDLC: ZN11
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-1147
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 030124181; http://id.ndl.go.jp/bib/030124181
• 整理区分コード: 632