超高圧電子顕微鏡-カソードルミネッセンス分光法の照射損傷研究への応用(特集 電子線照射下における材料挙動)

• 資料種別: 記事
• タイトル: 超高圧電子顕微鏡-カソードルミネッセンス分光法の照射損傷研究への応用
• 著者・編者: 安田 和弘; 渡辺 恭志; Pooreun Seo; AKM Islam Saiful Bhuian; Jean-Marc Costantini; 松村 晶
• シリーズタイトル: 特集 電子線照射下における材料挙動
• 著者標目: 安田 和弘; 渡辺 恭志; Pooreun Seo; AKM Islam Saiful Bhuian; Jean-Marc Costantini; 松村 晶
• 並列タイトル等: Development and Application of High Voltage Electron Microscopy : Cathodoluminescence (HVEM-CL) Technique to Radiation Damage Study
• タイトル（掲載誌）: 顕微鏡 = Microscopy / 「顕微鏡」編集委員会 編
• 巻号年月日等（掲載誌）: 54(3):2019
• 掲載巻: 54
• 掲載号: 3
• 掲載ページ: 110-115
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2019
• ISSN（掲載誌）: 1349-0958
• ISSN-L（掲載誌）: 1349-0958
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本顕微鏡学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 超高圧電子顕微鏡; 電子照射下「その場」観察/測定; カソードルミネセンス; 点欠陥; Fセンター; 酸化物セラミックス
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-896
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 030168773; http://id.ndl.go.jp/bib/030168773
• 整理区分コード: 632