樹脂パッドと電界砥粒制御技術を適用した先進結晶基板への低ダメージ機械研磨技術

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樹脂パッドと電界砥粒制御技術を適用した先進結晶基板への低ダメージ機械研磨技術

国立国会図書館請求記号
Z16-1147
国立国会図書館書誌ID
030192146
資料種別
記事
著者
千葉 翔悟ほか
出版者
東京 : 砥粒加工学会
出版年
2020-01
資料形態
掲載誌名
Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology 64(1)=449:2020.1
掲載ページ
p.32-38
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
千葉 翔悟
久住 孝幸
赤上 陽一
野老山 貴行
村岡 幹夫
並列タイトル等
Damage-less mechanical polishing technique for advanced crystal substrates using a resin pad and electric field-assisted polishing
タイトル(掲載誌)
Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology
巻号年月日等(掲載誌)
64(1)=449:2020.1
掲載巻
64
掲載号
1
掲載通号
449