次世代半導体リソグラフィの実用化に至るEUV光源のプラズマ研究開発のあゆみ
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 佐々木 明
- 著者標目
- 並列タイトル等
- The Progress on the Plasma Research for EUV Light Source for Next Generation Semiconductor Lithography
- タイトル（掲載誌）
- プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 96(6):2020.6
- 掲載巻
- 96
- 掲載号
- 6
- 掲載ページ
- 283-289