Removal of Novolac Photoresist with Various Concentrations of Photo-active Compound Using H₂/O₂ Mixtures Activated on a Tungsten Hot-wire Catalyst
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- Koki AkitaShota SogoRyusei SogameMasashi YamamotoShiro NagaokaHironobu UmemotoHideo Horibe
- タイトル（掲載誌）
- Journal of photopolymer science and technology
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 34(5):2021
- 掲載巻
- 34
- 掲載号
- 5
- 掲載ページ
- 499-504
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2021