気相成長株式会社Ga...

気相成長株式会社Gas-Phase Growth Ltd. 原料に特化して新しいCVD技術を進化させる 新しい薄膜開発は巧みの技で解決する (PROトロン特集 : ガスコントロールが世界を拓く)

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気相成長株式会社Gas-Phase Growth Ltd. 原料に特化して新しいCVD技術を進化させる 新しい薄膜開発は巧みの技で解決する

(PROトロン特集 : ガスコントロールが世界を拓く)

国立国会図書館請求記号
Z74-L306
国立国会図書館書誌ID
031748784
資料種別
記事
著者
-
出版者
大阪 : ガスレビュー
出版年
2014
資料形態
掲載誌名
PROトロン : beyond semiconductor 1:2014.Sum
掲載ページ
p.6-8
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資料種別
記事
タイトル(掲載誌)
PROトロン : beyond semiconductor
巻号年月日等(掲載誌)
1:2014.Sum
掲載巻
1
掲載ページ
6-8
掲載年月日(W3CDTF)
2014
出版事項(掲載誌)
大阪 : ガスレビュー
出版地(国名コード)
JP