旋回流プラズマジェッ...

旋回流プラズマジェットを用いた酸化物薄膜形成用大気溶射技術の開発

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旋回流プラズマジェットを用いた酸化物薄膜形成用大気溶射技術の開発

国立国会図書館請求記号
Z74-K960
国立国会図書館書誌ID
031900220
資料種別
記事
著者
安藤 康高ほか
出版者
足利 : 足利大学総合研究センター
出版年
2021
資料形態
掲載誌名
足利大学総合研究センター年報 = Annual review, Collaborative Research Center, Ashikaga University (22):2021
掲載ページ
p.21-25
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
安藤 康高
野田 佳雅
西山 秀哉
田中 学
茂田 正哉
並列タイトル等
Development of Thermal Spray Technology Using Vortex Plasma Jet for Oxide Film Deposition
タイトル(掲載誌)
足利大学総合研究センター年報 = Annual review, Collaborative Research Center, Ashikaga University
巻号年月日等(掲載誌)
(22):2021
掲載号
22
掲載ページ
21-25
掲載年月日(W3CDTF)
2021