試料の分析高さ位置の...

試料の分析高さ位置の不確定性を除外したW-Si標準物質を用いたXPSスペクトルピークの相対強度比の測定精度

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試料の分析高さ位置の不確定性を除外したW-Si標準物質を用いたXPSスペクトルピークの相対強度比の測定精度

国立国会図書館請求記号
Z15-B66
国立国会図書館書誌ID
033008438
資料種別
記事
著者
黒河 明ほか
出版者
東京 : 表面分析研究会
出版年
2023-08
資料形態
掲載誌名
Journal of surface analysis / 表面分析研究会 編 30(1):2023.8
掲載ページ
p.28-38
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
黒河 明
張 ルウルウ
並列タイトル等
Measurement Precision of Relative Intensity Ratio of XPS Spectrum Peaks When Using W-Si Reference Material Excluding Ambiguity of Analysis Height Position of Sample Surfaces
タイトル(掲載誌)
Journal of surface analysis / 表面分析研究会 編
巻号年月日等(掲載誌)
30(1):2023.8
掲載巻
30
掲載号
1
掲載ページ
28-38