半導体前工程概論

• 資料種別: 記事
• タイトル: 半導体前工程概論
• 著者・編者: 橋本 裕輝
• 著者標目: 橋本 裕輝
• 並列タイトル等: Semiconductor front-end process technology overview
• タイトル（掲載誌）: Journal of network polymer, Japan = ネットワークポリマー論文集
• 巻号年月日等（掲載誌）: 45(2):2024
• 掲載巻: 45
• 掲載号: 2
• 掲載ページ: 87-96
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2024
• ISSN（掲載誌）: 2433-3786
• ISSN-L（掲載誌）: 2433-3786
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 合成樹脂工業協会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Photoresist; Lithography; Semiconductor; Semiconductor front-end process; KrF; PHS; Semiconductor high-purity materials
• NDLC: ZP17
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-845
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033406193; http://id.ndl.go.jp/bib/033406193
• 整理区分コード: 632