A Novel Process to Reduce Roughness in Chemically Amplified Resist (CAR) for Next-Generation Lithography
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- Kayoko ChoCong Que DinhHikari TomoriSeiji NagaharaArisa HaraSeiji FujimotoMakoto Muramatsu
- タイトル（掲載誌）
- Journal of photopolymer science and technology
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 37(3):2024
- 掲載巻
- 37
- 掲載号
- 3
- 掲載ページ
- 251-256
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2024