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Photoresist for Water-developable Photolithography Process Using Plant-derived Hemicellulose

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Photoresist for Water-developable Photolithography Process Using Plant-derived Hemicellulose

国立国会図書館請求記号
Z53-W515
国立国会図書館書誌ID
033559860
資料種別
記事
著者
Yuna Hachikuboほか
出版者
Chiba : The Society of Photopolymer Science and Technology
出版年
2024
資料形態
掲載誌名
Journal of photopolymer science and technology 37(4):2024
掲載ページ
p.363-370
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
Yuna Hachikubo
Sayaka Miura
Rio Yamagishi
Mano Ando
Satoshi Takei
タイトル(掲載誌)
Journal of photopolymer science and technology
巻号年月日等(掲載誌)
37(4):2024
掲載巻
37
掲載号
4
掲載ページ
363-370
掲載年月日(W3CDTF)
2024