Novel EUV Underlayer Design for Metal Oxide Resist Patterning

• 資料種別: 記事
• タイトル: Novel EUV Underlayer Design for Metal Oxide Resist Patterning
• 著者・編者: Ji Young Hwang; Jung June Lee; Hyeon Woo Shin; Bon Ki Ku; Jae Hwan Sim; Jae Bong Lim
• 著者標目: Ji Young Hwang; Jung June Lee; Hyeon Woo Shin; Bon Ki Ku; Jae Hwan Sim; Jae Bong Lim
• タイトル（掲載誌）: Journal of photopolymer science and technology
• 巻号年月日等（掲載誌）: 37(3):2024
• 掲載巻: 37
• 掲載号: 3
• 掲載ページ: 263-266
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2024
• ISSN（掲載誌）: 0914-9244
• ISSN-L（掲載誌）: 0914-9244
• 出版事項（掲載誌）: Chiba : The Society of Photopolymer Science and Technology
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Adhesion; Surface energy; Pattern collapse; Metal oxide resist; Underlayer; EUV; Lithography
• NDLC: ZP48
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z53-W515
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033559978; http://id.ndl.go.jp/bib/033559978
• 整理区分コード: 632