Feature-size Control by Pattern Transfer Etching in Nanoimprint Lithography for Half-pitch 24 nm Damascene Interconnect

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CiNii Research

Feature-size Control by Pattern Transfer Etching in Nanoimprint Lithography for Half-pitch 24 nm Damascene Interconnect

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資料種別: 記事
タイトル: Feature-size Control by Pattern Transfer Etching in Nanoimprint Lithography for Half-pitch 24 nm Damascene Interconnect
著者・編者: Kenta Suzuki
Tetsuya Ueda
Hiroshi Hiroshima
Yoshihiro Hayashi
Masaki Ishida
Tomomi Funayoshi
Hiromi Hiura
Noriyasu Hasegawa
Kiyohito Yamamoto
著者標目: Kenta Suzuki
Tetsuya Ueda
Hiroshi Hiroshima
Yoshihiro Hayashi
Masaki Ishida
Tomomi Funayoshi
Hiromi Hiura
Noriyasu Hasegawa
Kiyohito Yamamoto
タイトル（掲載誌）: Journal of photopolymer science and technology
巻号年月日等（掲載誌）: 37(5):2024
掲載巻: 37
掲載号: 5
掲載ページ: 449-456
掲載年月日（W3CDTF）: 2024
ISSN（掲載誌）: 0914-9244
ISSN-L（掲載誌）: 0914-9244
出版事項（掲載誌）: Chiba : The Society of Photopolymer Science and Technology
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: Nanoimprint lithography
Pattern transfer etching
Damascene interconnect
Feature-size control
NDLC: ZP48
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z53-W515
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 033559993
http://id.ndl.go.jp/bib/033559993
整理区分コード: 632