本文に飛ぶ
雑誌触媒
オペランド偏光全反射...

オペランド偏光全反射蛍光XAFS法の開発による触媒動作中の活性点三次元構造解析 (特集 シンクロトロン放射光および中性子線を利用した触媒解析技術の最先端)

記事を表すアイコン

オペランド偏光全反射蛍光XAFS法の開発による触媒動作中の活性点三次元構造解析

(特集 シンクロトロン放射光および中性子線を利用した触媒解析技術の最先端)

国立国会図書館請求記号
Z17-223
国立国会図書館書誌ID
033642455
資料種別
記事
著者
高草木 達ほか
出版者
東京 : 触媒学会
出版年
2024-08
資料形態
掲載誌名
触媒 = Catalysts & catalysis 66(4):2024.8
掲載ページ
p.190-196
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
記事
著者・編者
高草木 達
魯 邦
並列タイトル等
Development of Operando PTRF-XAFS Technique and Its Application to 3D Structure Analysis of Catalyst Active Sites under Working Conditions
タイトル(掲載誌)
触媒 = Catalysts & catalysis
巻号年月日等(掲載誌)
66(4):2024.8
掲載巻
66
掲載号
4