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化学溶液析出法と化学...

化学溶液析出法と化学還元によるガラス基板上への低抵抗・密着性Cu層の形成

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化学溶液析出法と化学還元によるガラス基板上への低抵抗・密着性Cu層の形成

国立国会図書館請求記号
Z17-291
国立国会図書館書誌ID
033713556
資料種別
記事
著者
橋本 悠衣ほか
出版者
東京 : 表面技術協会
出版年
2024-09
資料形態
掲載誌名
表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan 75(9):2024.9
掲載ページ
p.408-414
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
橋本 悠衣
桑原 晴香
今堀 弘佑
稲葉 りえる
Pei Loon Khoo
藤田 直幸
髙橋 久弥
伊﨑 昌伸
並列タイトル等
Fabrication of Low Resistive and Adhesive Cu Layer on Glass Substrate by Chemical Bath Deposition and Chemical Reduction
タイトル(掲載誌)
表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
75(9):2024.9
掲載巻
75
掲載号
9
掲載ページ
408-414