尋常性痤瘡における過酸化ベンゾイル製剤またはアダパレン使用下でのIPL光治療併用と局所刺激症状の検討

• 資料種別: 記事
• タイトル: 尋常性痤瘡における過酸化ベンゾイル製剤またはアダパレン使用下でのIPL光治療併用と局所刺激症状の検討
• 著者・編者: 河内 沙織; 北村 歩; 大木 亜優; 町野 哲
• 著者標目: 河内 沙織; 北村 歩; 大木 亜優; 町野 哲
• 並列タイトル等: Local irritation symptoms associated with the combined use of benzoyl peroxide preparations or adapalene and IPL phototherapy in acne vulgaris
• タイトル（掲載誌）: Aesthetic dermatology : 日本美容皮膚科学会雑誌
• 巻号年月日等（掲載誌）: 36(1):2026.3
• 掲載巻: 36
• 掲載号: 1
• 掲載ページ: 36-40
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2026-03
• ISSN（掲載誌）: 1341-5530
• ISSN-L（掲載誌）: 1341-5530
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本美容皮膚科学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 尋常性痤瘡; IPL光治療; 過酸化ベンゾイル; アダパレン; 局所刺激症状; acne vulgaris; IPL phototherapy; benzoyl peroxide; adapalene; local irritation symptoms
• NDLC: ZS39
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z19-B565
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 034720786; http://id.ndl.go.jp/bib/034720786
• 整理区分コード: 632