雑誌電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
巻号108(429)-108(434) 20090200-20090200
記事錫(Sn)めっき表面...

錫(Sn)めっき表面の酸化皮膜の成長と接触抵抗特性--エリプソメトリによる研究 (機構デバイス)

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錫(Sn)めっき表面の酸化皮膜の成長と接触抵抗特性--エリプソメトリによる研究

(機構デバイス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
10176242
資料種別
記事
著者
鍋田 佑也ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2009-02-20
資料形態
紙
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 108(434) 2009.2.20
掲載ページ
p.7～12
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紙

資料種別
記事
タイトル
錫(Sn)めっき表面の酸化皮膜の成長と接触抵抗特性--エリプソメトリによる研究
著者・編者
鍋田 佑也
斎藤 寧
澤田 滋 他
シリーズタイトル
機構デバイス
著者標目
鍋田 佑也
斎藤 寧
澤田 滋
並列タイトル等
Growth law of the oxide film formed on the tin plated contact surface and its contact resistance characteristic
タイトル（掲載誌）
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等（掲載誌）
108(434) 2009.2.20
掲載巻
108
掲載号
434