Snめっきの高温放置における酸化被膜成長と接触抵抗特性についての検討

• 資料種別: 記事
• タイトル: Snめっきの高温放置における酸化被膜成長と接触抵抗特性についての検討
• 著者・編者: 富永 裕一; 山中 拓哉; 齋藤 寧 他
• シリーズタイトル: 機構デバイス
• 著者標目: 富永 裕一; 山中 拓哉; 齋藤 寧
• 並列タイトル等: Influence of aging on contact resistance characteristics of tin plated contacts
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 108(434) 2009.2.20
• 掲載巻: 108
• 掲載号: 434
• 掲載ページ: 13～18
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2009-02-20
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Snめっき; 酸化被膜; 接触抵抗; tin plated; oxidation film; contact resistance
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: EMD2008-122
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 10176246; http://id.ndl.go.jp/bib/10176246
• 整理区分コード: 632