Progress in extending immersion lithography for the 32nm node and beyond (Special issue: Microprocesses and nanotechnology)

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CiNii Research

Progress in extending immersion lithography for the 32nm node and beyond(Special issue: Microprocesses and nanotechnology)

国立国会図書館請求記号: Z53-A375
国立国会図書館書誌ID: 10260043

資料種別: 記事

著者: Harry Sewellほか

出版者: Tokyo : The Japan Society of Applied Physics

出版年: 2009-06

資料形態: デジタル

掲載誌名: Japanese journal of applied physics : JJAP 48(6) (2) 2009.6

掲載ページ: p.06FA01-1～6

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資料詳細

要約等：: コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌（提供元: CiNii Research）

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: Progress in extending immersion lithography for the 32nm node and beyond
著者・編者: Harry Sewell
Alek Chen
Jo Finders 他
シリーズタイトル: Special issue: Microprocesses and nanotechnology
著者標目: Harry Sewell
Alek Chen
Jo Finders
タイトル（掲載誌）: Japanese journal of applied physics : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）: 48(6) (2) 2009.6
掲載巻: 48
掲載号: 6
その他巻次: 2
掲載ページ: 06FA01-1～6
掲載年月日（W3CDTF）: 2009-06
ISSN（掲載誌）: 0021-4922
ISSN-L（掲載誌）: 0021-4922
出版事項（掲載誌）: Tokyo : The Japan Society of Applied Physics
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: ZM35
対象利用者: 一般
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
遠隔複写可否（NDL）: 可
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z53-A375
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/11226761
https://dl.ndl.go.jp/pid/11226761
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 10260043
http://id.ndl.go.jp/bib/10260043
整理区分コード: 632