Lithographic performance of extreme ultraviolet full-field exposure tool at Selete(Special issue: Microprocesses and nanotechnology)

• 資料種別: 記事
• タイトル: Lithographic performance of extreme ultraviolet full-field exposure tool at Selete
• 著者・編者: Kazuo Tawarayama; Hajime Aoyama; Takashi Kamo 他
• シリーズタイトル: Special issue: Microprocesses and nanotechnology
• 著者標目: Kazuo Tawarayama; Hajime Aoyama; Takashi Kamo
• タイトル（掲載誌）: Japanese journal of applied physics : JJAP
• 巻号年月日等（掲載誌）: 48(6) (2) 2009.6
• 掲載巻: 48
• 掲載号: 6
• その他巻次: 2
• 掲載ページ: 06FA02-1～6
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2009-06
• ISSN（掲載誌）: 0021-4922
• ISSN-L（掲載誌）: 0021-4922
• 出版事項（掲載誌）: Tokyo : The Japan Society of Applied Physics
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: ZM35
• 対象利用者: 一般
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z53-A375
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/11226761; https://dl.ndl.go.jp/pid/11226761
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 10260051; http://id.ndl.go.jp/bib/10260051
• 整理区分コード: 632

• 要約等: コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌（提供元: CiNii Research）