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触媒化学気相堆積法による薄膜形成 (特集 触媒CVD法による薄膜・プロセス技術)

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触媒化学気相堆積法による薄膜形成(特集 触媒CVD法による薄膜・プロセス技術)

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
10664869
資料種別
記事
著者
大平 圭介ほか
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
2010-04
資料形態
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 31(4) 2010.4
掲載ページ
p.178~183
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
大平 圭介
松村 英樹
並列タイトル等
Thin-film formation by catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD)
タイトル(掲載誌)
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
31(4) 2010.4
掲載巻
31
掲載号
4