薄膜磁気デバイスの高...

薄膜磁気デバイスの高性能化に向けた新磁性材料開発・高品位薄膜作製技術--ハードディスクドライブ(HDD)用磁気再生素子を例に (特集 新技術実用化への展望)

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薄膜磁気デバイスの高性能化に向けた新磁性材料開発・高品位薄膜作製技術--ハードディスクドライブ(HDD)用磁気再生素子を例に

(特集 新技術実用化への展望)

国立国会図書館請求記号
Z17-54
国立国会図書館書誌ID
10748086
資料種別
記事
著者
吉村 哲
出版者
東京 : 小峰工業出版
出版年
2010-07
資料形態
掲載誌名
化學工業 61(7) (通号 725) 2010.7
掲載ページ
p.489~494
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
吉村 哲
著者標目
並列タイトル等
Development of new magnetic material and high quality film fabrication process for high performance magnetic thin film device
タイトル(掲載誌)
化學工業
巻号年月日等(掲載誌)
61(7) (通号 725) 2010.7
掲載巻
61
掲載号
7