Activation behaviour for doped Si films after laser or furnace annealing

• 資料種別: 記事
• タイトル: Activation behaviour for doped Si films after laser or furnace annealing
• 著者・編者: 野口 隆; 鈴木 俊治
• シリーズタイトル: Electron devices
• 著者標目: 野口 隆; 鈴木 俊治
• 並列タイトル等: レーザー、熱アニール後のドープSi膜の電気的活性化 レーザー 、 ネツ アニール ゴ ノ ドープ Siマク ノ デンキテキ カッセイカ
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 110(109) 2010.6-7.30-2
• 掲載巻: 110
• 掲載号: 109
• 掲載ページ: 149～153
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2010
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: ED2010-85
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 10752322; http://id.ndl.go.jp/bib/10752322
• 整理区分コード: 632