超臨界二酸化炭素処理技術のフォトリソグラフィへの応用と微小レジストパターンの密着強度への影響(小特集 超臨界流体と表面処理技術)

• 資料種別: 記事
• タイトル: 超臨界二酸化炭素処理技術のフォトリソグラフィへの応用と微小レジストパターンの密着強度への影響
• 著者・編者: 石山 千恵美
• シリーズタイトル: 小特集 超臨界流体と表面処理技術
• 著者標目: 石山 千恵美
• 並列タイトル等: Effects of supercritical carbon dioxide on adhesive strength of microsized photoresist patterns in photolithography
• タイトル（掲載誌）: 表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan
• 巻号年月日等（掲載誌）: 61(8) 2010.8
• 掲載巻: 61
• 掲載号: 8
• 掲載ページ: 571～577
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2010-08
• ISSN（掲載誌）: 0915-1869
• ISSN-L（掲載誌）: 0915-1869
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 表面技術協会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Supercritical Carbon Dioxide; Adhesive Strength; SU-8; MEMS
• NDLC: ZP41
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-291
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 10804323; http://id.ndl.go.jp/bib/10804323
• 整理区分コード: 632