CoSi合金ターゲットのリアクティブスパッタリングによるCo-SiO2グラニュラー膜の作製プロセスの低ガス圧化

• 資料種別: 記事
• タイトル: CoSi合金ターゲットのリアクティブスパッタリングによるCo-SiO2グラニュラー膜の作製プロセスの低ガス圧化
• 著者・編者: 佐々木 晋五; 斉藤 伸; 高橋 研
• 著者標目: 佐々木 晋五; 斉藤 伸; 高橋 研
• 並列タイトル等: Low-gas-pressure deposition of Co-SiO2 granular films by reactive sputtering using CoSi alloy target
• タイトル（掲載誌）: Journal of the Magnetics Society of Japan
• 巻号年月日等（掲載誌）: 34(5) (通号 247) 2010
• 掲載巻: 34
• 掲載号: 5
• 掲載通号: 247
• 掲載ページ: 563～567
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2010
• ISSN（掲載誌）: 1882-2924
• ISSN-L（掲載誌）: 1882-2924
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本磁気学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: perpendicular magnetic recording media; low-gas-pressure deposition; reactive sputtering; Co-oxide granular film; Co-SiO2
• NDLC: ZM35
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z15-398
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 10827429; http://id.ndl.go.jp/bib/10827429
• 整理区分コード: 632