回想の半導体露光装置用ウエハステージ--モデル化の満たされない想い (特集 環境の不確かさや変動に対応した柔軟性のあるモーションコントロール)
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 涌井 伸二
- 著者標目
- 並列タイトル等
- Reminiscences of wafer stage for semiconductor exposure apparatus: unsatisfied longing for modeling
- タイトル（掲載誌）
- 精密工学会誌 = Journal of the Japan Society for Precision Engineering / 会誌編集委員会 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 77(5) (通号 917) 2011.5
- 掲載巻
- 77
- 掲載号
- 5