デバイス動作下硬X線...

デバイス動作下硬X線光電子分光法による最先端材料の物性解明 (第30回表面科学学術講演会特集号(1))

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デバイス動作下硬X線光電子分光法による最先端材料の物性解明(第30回表面科学学術講演会特集号(1))

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
11150003
資料種別
記事
著者
山下 良之ほか
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
2011-06
資料形態
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 32(6) 2011.6
掲載ページ
p.320~324
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
山下 良之
長田 貴弘
吉川 英樹 他
並列タイトル等
Bias-application in hard X-ray photoelectronic study for advanced materials
タイトル(掲載誌)
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
32(6) 2011.6
掲載巻
32
掲載号
6