紫外励起近接場ラマン顕微鏡によるシリコン半導体の二次元応力評価
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 吉川 正信
- 著者標目
- 並列タイトル等
- Two dimensional stress characterization of Si by a scanning near-field optical Raman microscope using ultraviolet resonant Raman scattering
- タイトル（掲載誌）
- 分析化学 / 日本分析化学会 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 60(7) (通号 690) 2011.7
- 掲載巻
- 60
- 掲載号
- 7
- 掲載通号
- 690