非線形プロセスモデルに基づくCMP-APC(第2報)セリアスラリーによる酸化膜のCMPのRun-to-Run制御
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 森澤 利浩小林 裕通武田 行生
- 並列タイトル等
- CMP-APC based on nonlinear process model (2nd report) Run-to-run control of oxide-film CMP with ceria slurry
- タイトル（掲載誌）
- 精密工学会誌 = Journal of the Japan Society for Precision Engineering / 会誌編集委員会 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 77(9) (通号 921) 2011.9
- 掲載巻
- 77
- 掲載号
- 9
- 掲載通号
- 921