化学修飾シリカゲルを触媒とするアルキルベンゼンの塩素化反応

• 資料種別: 記事
• タイトル: 化学修飾シリカゲルを触媒とするアルキルベンゼンの塩素化反応
• 著者・編者: 小西 久俊 他
• 著者標目: 小西 久俊
• タイトル（掲載誌）: 日本化学会誌 : 化学と工業化学 / 日本化学会 編
• 巻号年月日等（掲載誌）: 1988(7) 1988.07
• 掲載巻: 1988
• 掲載号: 7
• 掲載ページ: p1059～1064
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1988-07
• ISSN（掲載誌）: 0369-4577
• ISSN-L（掲載誌）: 0369-4577
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本化学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZP1
• 対象利用者: 一般
• 記事種別、記事分類: 記事分類: 化学・化学工業--理論化学・物理化学 ; 化学・化学工業--有機化学・有機化学工業--環状化合物--芳香族化合物
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-659
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 3194983; http://id.ndl.go.jp/bib/3194983
• 整理区分コード: 632

• 要約等: 記事分類: 化学・化学工業--理論化学・物理化学 ; 化学・化学工業--有機化学・有機化学工業--環状化合物--芳香族化合物（提供元: CiNii Research）