表面状態の解析-19-昇温脱離法による吸着・脱離過程の解明

• 資料種別: 記事
• タイトル: 表面状態の解析-19-昇温脱離法による吸着・脱離過程の解明
• 著者・編者: 藤田 大介
• 著者標目: 藤田 大介
• タイトル（掲載誌）: 表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan
• 巻号年月日等（掲載誌）: 42(8) 1991.08
• 掲載巻: 42
• 掲載号: 8
• 掲載ページ: p815～820
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1991-08
• ISSN（掲載誌）: 0915-1869
• ISSN-L（掲載誌）: 0915-1869
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 表面技術協会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZP41
• 対象利用者: 一般
• 記事種別、記事分類: 記事分類: 物理学--分子・物性
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-291
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 3727481; http://id.ndl.go.jp/bib/3727481
• 整理区分コード: 632

• 要約等: 記事分類: 物理学--分子・物性（提供元: CiNii Research）