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マスキング剤を用いた高純度ニッケル中の微量ケイ素の定量

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マスキング剤を用いた高純度ニッケル中の微量ケイ素の定量

国立国会図書館請求記号
Z17-9
国立国会図書館書誌ID
3879645
資料種別
記事
著者
清川 政義ほか
出版者
東京 : 日本分析化学会
出版年
1994-04
資料形態
デジタル
掲載誌名
分析化学 / 日本分析化学会 編 43(4) 1994.04
掲載ページ
p.p289~293
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資料詳細

要約等:

高純度ニッケル中の微量ケイ素定量はJIS法では感度的に不十分である.又,微量ケイ素の定量法として用いられているフッ化物分離法では,マトリックスのニッケル量が増えると硫酸ニッケルの沈殿が生じ,ケイ素の揮発分離が阻害されるため,ppmオーダまでのケイ素の定量しかできない.そこで,クエン酸を用いてニッケル...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
清川 政義
山口 仁志
長谷川 良佑
タイトル(掲載誌)
分析化学 / 日本分析化学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
43(4) 1994.04
掲載巻
43
掲載号
4
掲載ページ
p289~293
掲載年月日(W3CDTF)
1994-04