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温度測定による坩堝内シリコン融液流れの推定--融液密度異常が流れに及ぼす影響 (小特集:バルク結晶成長の新しいアプローチ)

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温度測定による坩堝内シリコン融液流れの推定--融液密度異常が流れに及ぼす影響(小特集:バルク結晶成長の新しいアプローチ)

国立国会図書館請求記号
Z15-339
国立国会図書館書誌ID
3974939
資料種別
記事
著者
十河 慎二ほか
出版者
大阪 : 日本結晶成長学会
出版年
1996-07
資料形態
掲載誌名
日本結晶成長学会誌 = Journal of the Japanese Association for Crystal Growth 23(2) 1996.07
掲載ページ
p.82~92
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
十河 慎二
寺嶋 一高
木村 茂行
タイトル(掲載誌)
日本結晶成長学会誌 = Journal of the Japanese Association for Crystal Growth
巻号年月日等(掲載誌)
23(2) 1996.07
掲載巻
23
掲載号
2
掲載ページ
82~92