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マルチメディアデバイスの最前線--cat-CVD法を用いた薄膜堆積と半導体表面改質 (特集 マルチメディア時代における真空装置と薄膜応用)

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マルチメディアデバイスの最前線--cat-CVD法を用いた薄膜堆積と半導体表面改質(特集 マルチメディア時代における真空装置と薄膜応用)

国立国会図書館請求記号
Z17-291
国立国会図書館書誌ID
4334597
資料種別
記事
著者
和泉 亮ほか
出版者
東京 : 表面技術協会
出版年
1997-11
資料形態
掲載誌名
表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan 48(11) 1997.11
掲載ページ
p.1082~1087
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
和泉 亮
松村 英樹
タイトル(掲載誌)
表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
48(11) 1997.11
掲載巻
48
掲載号
11
掲載ページ
1082~1087