シリコン表面におけるGa細線の形成とその特性(特集:STM,AFMリソグラフィーによる半導体微細プロセスの現状)

国立国会図書館請求記号: Z15-379
国立国会図書館書誌ID: 4600398

資料種別: 記事

著者: 橋詰富博ほか

出版者: 東京 : 日本表面科学会

出版年: 1998-11

資料形態: デジタル

掲載誌名: 表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会編 19(11) 1998.11

掲載ページ: p.716～721

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: シリコン表面におけるGa細線の形成とその特性
著者・編者: 橋詰富博
平家誠嗣
一杉太郎他
シリーズタイトル: 特集:STM,AFMリソグラフィーによる半導体微細プロセスの現状
著者標目: 橋詰富博
平家誠嗣
一杉太郎
タイトル（掲載誌）: 表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会編
巻号年月日等（掲載誌）: 19(11) 1998.11
掲載巻: 19
掲載号: 11
掲載ページ: 716～721
掲載年月日（W3CDTF）: 1998-11
ISSN（掲載誌）: 0388-5321
ISSN-L（掲載誌）: 0388-5321
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本表面科学会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZM35
対象利用者: 一般
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z15-379
関連情報（URI）: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/8326696
関連情報（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/8326696
http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/8326696
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 4600398
http://id.ndl.go.jp/bib/4600398
整理区分コード: 632